半导体发展的下一波浪潮:高纯度气体过滤
在人工智能、高性能计算 (HPC)、汽车电子和物联网应用的推动下,半导体行业正在经历快速转型。为了满足不断增长的需求,预计 18 年将有 2025 家新制造厂 (晶圆厂) 破土动工,这将使全球半导体产能同比增长 6.6%(SEMI网站)然而,这种增长也带来了新的挑战——在运营规模以前所未有的速度扩大的情况下,晶圆厂必须确保生产环境保持纯净。
污染控制是半导体制造的基石,因为即使是亚微米颗粒或分子杂质也会导致缺陷、产量损失和不稳定。Mott 先进的多孔金属过滤和流量控制解决方案在为尖端节点和成熟技术节点维护超洁净环境方面发挥着关键作用。
超纯气体输送:关键工艺变量
超过行业标准的过滤系统可通过减少缺陷和延长使用寿命来提供竞争优势。高纯度气体在半导体制造中至关重要,因为即使是微量颗粒或分子杂质也会引起纳米级缺陷、改变薄膜特性并损害电气性能。
Mott 大宗气体过滤:9-Log 颗粒减少至 0.0015 μm
Mott 设计大宗气体过滤器,以满足半导体行业最严格的纯度标准,其特点是:
- 9-log(99.9999999%)去除效率 亚微米颗粒小至 0.0015 μm
- 全金属多孔介质消除了与聚合物替代品相关的排气和脱落问题
- 最小压差,确保高效的气体流动和优化的过滤性能
- 使用寿命更长、热稳定性更好 与传统过滤材料相比
极端条件下的性能:加热干燥应用
过滤后,气流通常会经历加热干燥循环,在此期间,极端温度会在关键工艺步骤之前去除残留污染物。传统过滤介质可能会在这些条件下降解,导致脱落、失效或效率损失。
Mott 的过滤器经过专门设计,可承受高温和高气体流速,确保:
- 一致的过滤性能 在高温环境中
- 用于 惰性、耐腐蚀材料 尽量减少渗漏或颗粒释放的风险
- 增加流程正常运行时间 减少频繁维护或更换过滤器的需要
利用高纯度过滤扩大半导体制造规模
随着半导体工厂规模扩大以满足日益增长的需求,保持工艺一致性、纯度和运营效率对于最大程度提高产量和减少晶圆废料至关重要。高纯度气体过滤可最大限度地降低整个气体供应链直至晶圆级的污染风险。Mott 始终处于半导体气体过滤领域的前沿,提供可提供卓越纯度、性能和使用寿命的工程解决方案。其专业知识使晶圆厂能够在日益苛刻的行业环境中优化产量、可靠性和成本效益。
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