Mott Corporation 推出 GasShield HiFlow 夹层过滤器
Mott 公司推出了 GasShield HiFlow 夹层过滤器，旨在满足下一代半导体制造的严格要求。 随着行业超越摩尔定律的发展，钼 (Mo) 等材料因其优于传统钨的性能（例如更低的电阻率和增强的抗电迁移性）而变得至关重要。
钼的集成需要采用原子层沉积 (ALD) 技术，而这又需要专门的过滤解决方案来确保工艺稳定性。Mott的 GasShield HiFlow 三明治过滤器通过以下方式满足了这一需求：
- 高颗粒截留：根据 SEMI F38-0720，1.5 nm 时 LRV 超过 9。
- 全金属结构：消除脱落和排气。
- 卓越的耐腐蚀性：可与合金 C-22 一起用于卤化前体。
- 高温稳定性：最高460°C。
- 卓越的流动效率：与传统圆盘过滤器相比，压降降低 25–35%。
- 超高纯度：水分含量低于 10 ppb，碳氢化合物含量低于检测限。
- 紧凑型设计：尺寸为 1.12 英寸 x 1.12 英寸 x 0.49 英寸，便于集成到紧密的工具布局和高温环境中。
此外，该过滤器可确保稳定的流量（部件间差异≤2%），并在标准使用条件下提供五年可靠性保证。其即插即用的安装方式支持C型密封和定制W型密封两种选择。
Mott公司的半导体技术专家Paul Hofemann表示：“ GasShield HiFlow三明治过滤器是实现超越摩尔定律制造的关键推动因素，可确保在基于ALD的钼沉积中实现更高的良率、更清洁的工艺和更可靠的性能。”
