モット、Semicon West 2016で最先端のろ過技術を発表
モット・コーポレーションは現在、SEMICON West 2016に参加し、主要なツールメーカーや販売代理店と交流しています。この展示会では、業界を牽引するサブミクロン粒子ろ過技術の開発を含む、いくつかの新製品を発表しています。この技術は、ガスろ過を現在および将来のラインノードにおける汚染制御ニーズに合致させるものです。
この発表とともに、3DおよびFin-Fetチップ製造用の原子層堆積の進歩で非常に人気が高まっている有機金属前駆体材料のろ過およびフロー制御における重要な開発のプレゼンテーションがあります。
モットの高純度部門は、ロードロックおよびウェーハ処理大気制御で使用する新しいメディアを積極的に開発しており、最適なベントアップ、粒子汚染の低減、および既存製品の現在の寿命の3倍を可能にする業界で最も耐久性のある拡散技術を実現しています。
ご質問や面会のご希望は、展示会にご参加予定の方、またはサンフランシスコにお越し予定の方は、ケビン・マクガフィン（[email protected]）またはショーン・ケイン（[email protected]）までご連絡ください。
